第15章 光刻机图纸

许阳有些心虚的缩了缩脖子，连忙点点头道：“娘，我知道了，今天我保证哪儿也不去。”

“嗯。”刘秋霞满意的点了点头，“厨房里面我煲有肉粥，你赶紧洗漱吃饭去吧，我和你爹现在得去班了。”

“行！”

于是刘秋霞便和许安福骑着自行车班了。

许阳吃完早餐后，先从系统空间把抽风机拿出来，然后花了点时间安装，不过家里还没有拉电线，他准备过两天去供电局拉电线，不然每天晚用着煤油灯也不是一回事。

弄完这些之后，许阳回到房间，他打算趁着这段时间将第三代投影光刻机的图纸画出来，到时候就能直接生产零件了。

为什么许阳现在不搞之前系统奖励的第四代步进式投影光刻机呢？

这就得说说第三代和第四代光刻机的区别了。

第三代投影光刻机，虽然良品率和低成本都有了很大提高，但本质还是属于1:1光刻。

光源将掩膜版的电路图案，通过反射镜1:1投射到硅片面，再通过光线与光刻胶的作用，在硅片形成真正的电路。

也就是说，掩膜版的电路图案精度有多高，那么最终生产出来的芯片精度就有多高。

而第四代步进式投影光刻机，改进了光学系统，通过复杂的各种镜片，将掩膜版的电路图案，等比例缩小照射到硅片面，大大提高了芯片的制程精度。

然而这也有一个缺点，之前1:1投射的光刻机，光源会直接将整块晶圆都笼罩在其中，所以放置晶圆的工件台都是固定的。

但第四代光刻机，由于电路图案通过光学系统缩小，所以直接照射在晶圆一小块区域，这就导致放置晶圆的工件台需要不停移动，才能把整片晶圆都利用完。

所以第四代光刻机需要非常精密的步进电机，还有精密的光学精缩系统。

许阳虽然能设计出一款先进的步进电机，但这年头可没有数控机床，想要生产出来只能手工制作各种零件，而且时间也需要很久。

至于光学精缩系统，系统奖励的图纸倒是有，许阳只要给出相应的尺寸，就能将各种镜片磨出来。

不过有镜片还不行，还需要经过复杂的调试。

这也需要花费非常长的时间。

综合考虑之下，许阳打算先将第三代投影光刻机弄出来，然后再利用这种光刻机，生产出一批性能还算过得去的芯片。

像这种第三代投影光刻机，精度完全依赖于掩膜版，而掩膜版理论精度最高能达到1微米。

当然，这只是理论。

1978年intel研制的8086处理器，就是用第三代投影光刻机制造出来的，它的精度达到了3微米，基本已经达到了极限！

许阳皱着眉头，拿着笔画着光刻机图纸，首先是光源，毫无疑问是使用高压汞灯。

高压汞灯并不罕见，1906年就研制出来了，作为照明工具。

国内虽然从62年才研制出高压汞灯，但作为常用的照明工具，许阳想要买到高压汞灯并不困难。

高压汞灯能释放出紫外线，哪怕直到八九十年代，依旧是光刻机常用的光源之一。

而光学系统则是两块反射镜，只要计算出具体的尺寸，就能通过人工磨制出来。

其他就没有什么难度了。

当然，仅仅有了光刻机还不行，还需要生产晶圆的单晶炉，与紫外线产生反应的光刻胶，还有湿法蚀刻溶液，掩膜版的研制等等，都是生产芯片必须的。

不过有了系统奖励的完整技术图纸，许阳也并不担心失败。

前期最重要的还是将芯片研制出来，许多东西都能用手工少量生产。

只要能把芯片弄出来，面就能看到芯片强大的性能，到时候他才能获得大量的资金支持，从而推动华夏迈入半导体时代！

前世许阳作为顶级的半导体专家，不知道设计过多少机器的图纸，他的画图技术当然是顶尖的。

而第三代光刻机并不复杂，构造也非常简单，和后世那些复杂精密无比的光刻机，完全不是层面的东西。

仅仅用了半天时间，许阳便把整个光刻机图纸全部画出来了……

清明踏青快乐读书！充100赠500VIP点券！

(活动时间：4月4日到4月6日)