墙壁的黑板，要比次杨玄来时，扩大了许多。
一些了年纪的教授专家，坐在最前排，年轻的向后站。
渐渐地。
整个场合安静下来，所有人将静静看着讲台的杨玄，看着他手持粉笔，快速在黑板绘图。
前面说过，光刻机的工序非常复杂。
其中不仅仅是激光器是核心技术，运载系统、激光系统、传感器、光学系统等其他几个方面，同样也是核心技术。
准分子激光器，只是基于其他技术达不到的情况下，作为杀手锏的存在。
但现在，杨玄希望，国产的激光器，最好所有环节配件都是自主研发。
连续用完两根粉笔，杨玄才将一台光刻机，解剖式的绘制在黑板。
将里面的几个大型配件，逐一陈列分散开来。
“诸位老师，何兰的ASML，正在研发新一代的光刻机，既1900i型号。”
“但据我所知，1900i型光刻机，同样还是沿用了arf193nm光波，只是提高了激光切割尺寸。”
“也就是说，他们原来的配件并没有变化，只是将准分子激光器的功率提高了。”
“但ASML未来的光刻机，既euv光刻机，就是我黑板画的这个样子……”
说着，杨玄从第一个开始讲起：“除激光技术之外，还有六大核心技术。”
“架构设计：与光学光刻公用平台，针对真空腔与反射式曝光系统开展系统设计。”
“全反射，非共轴光学系统。”
“高速、高精度运动台与控制技术。”
“大功率、高可靠性光源。”
“传输过渡腔体、控制污染与颗粒进入主真空腔。”
“传感器真空兼容性设计。”
“高真空性环境下的研究：既密封性设计、材料抑制释放污染。”
来科学院之前，杨玄没有准备相关的设计方案。
从而导致讲课的时候，很难像之前一样，有条不紊，逻辑清晰。
眼下，他只能绞尽脑汁，搜索自己前世2021年所看的所有关于光刻机的论文。
相信凭借十六年后的论文方案，对于提升当下的光刻机技术，帮助应该是极大的。
但这也不是杨玄的功劳
而是几十年来，光刻技术领域所有专家的结晶，从业者编写成论文，让杨玄有了装逼的砝码。
“小杨，你先主要讲讲，光学系统领域的问题。”
台下，光学研究中心主任眯着眼睛询问道：“从你次讲完课，我们成立了一个课题小组，到目前，关于提高反射率的难题，始终没有功课。”
杨玄停顿了下，转身道：“老师，光学系统环境中水分子和碳氢化合物是导致反射率降低的主要原因。”
“这些水分子和碳氢化合物可能来源是材料表明的放气、泄漏和真空系统自身。”
“在高能量光照下水分子会氧化Mo\/Si，碳氢化合物会分解，在反射镜表面沉积一层碳膜。”
“数据显示反射镜表面沉积0.3nm的氧化层便会导致约1%的反射率损失。”
“所以，您可以尝试，在Mo\/Si层中加入Rh、Sr等材料；对每一层材料厚度做优化以及使用B4C作为保护层。”
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